| Versioun | 1.3 |
|---|---|
| Editeur | Abneil Software |
| Release Datum | 26. Aug. 2008 |
| Datum derbäi | 6. Juli 2006 |
| Os Ufuerderunge | Mac OS X 10.4 PPC, Macintosh, Mac OS X 10.3, Mac OS X 10.0, Mac OS X 10.2, Mac OS X 10.3.9, Mac OS X 10.1 |
| Ufuerderunge | Adobe (r) Illustrator (r) 10, CS1 or CS2 |
| Total Downloads | 26 |
Beschreiwung
Muster Manipulatioun Plugin fir Illustrator CS2 CS1 10.
De Plugin manipuléiert d'Muster Swatch Designs op 100s vu verschiddene Weeër/Skaléieren/Rotatioun/Faarfmanipulatioun a méi fir dynamesch Textur/Musterdesign/abstrakt Design ze kreéieren
Kombinéiert och elo eng Topschicht/randomiséierter Faarf/Mëschung (wann néideg) fir zousätzlech Faarfdesign
Elo kënnt mat Tumble Knäppchen fir Astellungen op 1000s vu Weeër ze randomiséieren fir nach méi beandrockend Designen
D'Swatches kënnen och geschicht ginn fir e Grafikstil ze kreéieren fir weider am Illustrator (oder Symbol) ze benotzen - d'Fëllungen erschéngen an der 'Erscheinung' Palette/Vermëschungsmodi an Opazitéit etc kënne geännert a kombinéiert ginn fir eng bal onendlech Gamme vu super bis surrealistesch ze kreéieren zum wierklech ongewéinleche Musterdesign.
De Plugin-Set kënnt mat engem Plugin fir CS1 10 an och e Plugin fir an CS2 ze benotzen.
De Plugin-Set gëtt och mat enger grousser Zuel/100s vu Muster-Swatches geliwwert fir royaltyfräi Notzung am Plugin.
Eng Demo ass verfügbar op der graphicxtras.com Site iwwer d' patternPrint Plugin Säit.
Adobe an Illustrator sinn registréiert Marken vun Adobe
